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膜厚仪的原理

     膜厚仪的的原理是物质经X射线或粒子射线照射后,因为吸取剩余的能量而变成不安稳的状况。从不安稳状态要回到安稳状态,此物质必需将剩余的能量释放出来,而此刻是以荧光或光的形状被释放出来。荧光X射线镀层厚度丈量仪或成分分析仪的原理即是丈量这被释放出来的荧光的能量及强度,来进行定性和定量分析。
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